Ellipsometer adalah alat untuk mengukur ketebalan dari lapisan tipis film. Alat ini sering digunakan dalam microsistem, contohnya untuk mengukur ketebalan endapan setelah proses pengendapan(deposition).
Cara kerja alat ini adalah mempolarisasi secara elips sinar laser kemudian memantulkannya ke objek yang dicari ketebalannya seperti wafer yang sudah dilapisi oleh endapan SiO2. Pantulan dari cahaya terpolarisasi ini diukur intensitasnya dengan CCD.
Ketelitian dari ellipsometer sangat tinggi, dapat mencapai tingkat micro, bahkan sampai nanometer.
Basis data pengawasan otoritas: Nasional  |
|---|
 | Artikel bertopik optika ini adalah sebuah rintisan. Anda dapat membantu Wikipedia dengan mengembangkannya. |